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Objetivos de pulverización catódica de cerámica
Se caracteriza por su alta pureza, composición uniforme y durabilidad. Se utiliza ampliamente en procesos de pulverización catódica para la deposición de películas delgadas en diversas industrias, como la electrónica, las células solares y la fabricación de semiconductores. La pureza y uniformidad de este material garantizan que las películas depositadas presenten propiedades consistentes, lo que lo convierte en una opción ideal para aplicaciones que requieren un control preciso de las características de la película. Su durabilidad también le permite soportar las rigurosas condiciones de los procesos de pulverización catódica, asegurando un rendimiento fiable a lo largo del tiempo.
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Objetivo de pulverización catódica ITO de alta conductividad y transparencia para pantallas y células solaresEl objetivo de pulverización catódica ITO, un compuesto de In2O3 y SnO2, optimiza la conductividad, la transparencia y la durabilidad de pantallas (LCD, OLED, etc.) y vidrios especiales (conductores, aislantes térmicos, etc.). -
Objetivo de pulverización catódica de alúmina de alta pureza al 99,99 % para aplicaciones ópticas, semiconductores y PVDObjetivo de alúmina pura al 99,99%, alta dureza, ideal para PVD, mejora el aislamiento eléctrico en semiconductores.
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